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  Oxygen Enhanced Surface Roughening of Si(111) Induced by Low-Energy Xe+ Ion Sputtering

表面分析と標準化のための国際ワークショップ, iSAS-09,(ポスター講演者のための5分間 ショートプレゼンテーション)
摂南大学 工学部 表面物性工学研究室 学部4年 宮川拓也, (2009.3.15-18,沖縄コンベンションセンター)(4分45秒)

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The International Workshop for Surface Analysis & Standardization, iSAS-09, 2009.3.15-18, Okinawa
" P-14 Oxygen Enhanced Surface Roughening of Si(111) Induced by Low-Energy Xe+ Ion Sputtering "
Takuya MIYAGAWA*, Kousuke INOUE, and Masahiko INOUE
講演要旨(PDF) abst


会議場の様子
 
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